恶臭气体处理设备 治理恶臭气体设备

uv光催化氧化废气处理设备，光氧催化氧化 利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气，使**或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，与臭氧进行反应生成低分子化合物，如CO2、H2O等。投低，适用范围广，净化效率高，操作简单，除臭效果好，设备运行稳定，占地小，运行费用低，随用随开，不会造成二次污染。

光催化氧化vocs废气处理设备特点：
　　1、性：光催化氧化除臭设备能去除挥发性**物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率高可达99%，远**过恶臭污染物排放标(GB14554-93)。
　　2、*预处理：光催化氧化除臭设备恶臭气体*进行的预处理，如加温、加湿等，除臭设备工作环境温度在摄氏-30度-95度之间，湿度在30%-98%、PH指在3-11之间均可正常工作。
　　3、*添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭气体通过光催化废气处理设备进行脱臭分解净化，*添加任何物质参与化学反应。
　　4、运行成本低：光催化除臭设备去任何机械动作，无噪音，*专人管理和日常维护，只需定期检查，本设备能耗低，(每处理废气风量为1000立方米/小时，仅耗电约0.2度电能)，设备风阻低

光催化氧化装置  光催化氧化法是目前研究较多的一项氧化技术。所谓光催化反应，就是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁，受激产生分子激发态，然后会发生化学反应生成新的物质，或者变成引发热反应的中间化学产物。光催化降解中较常见的是在污染体系中投加一定量的光敏材料，同时结合一定量的光，使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对，吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用，产生·HO等氧化性强的自由基，再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等形式使污染物全部或接近全部矿化。 净化主机纳米光催化氧化部分工作原理
该设备核心中的纳米光催化触媒材料（GC-100）是一种吸收光能后，能在其表面产生催化反应的物质，其功能类似于植物的叶绿素。当特定纳米波长的紫外光照射光催化触媒材料（GC-100）时，其表面发生光催化氧化还原反应。光催化触媒材料（GC-100）吸收光子后在其表面产生电子（E—）和空穴（H+），将吸收的光能转化成化学能，即具有光催化作用。
当光催化触媒材料（GC-100）与空气中的水接触时，表面就吸附H2O、O2、OH—，H2O、 OH—被空穴（H+）所氧化，O2被电子（E—）还原，反应室如下：
H2O+ H+ → OH. + H+ O2+ E— → O2—OH—基团的氧化能力较强，使**物氧化，终分解为水和CO2。

紫外线除臭设备是一种能有效快速的高科技环保净化设备，运用高能量UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解化成低分子化合物、水和二氧化碳，使用中无须任何添加剂,不产生二次污染。
特制UV紫外线灯：紫外线照射在纳米TiO2催化剂上，催化剂吸收光能产生电子-空穴对，与废气表面吸附的水份和氧气反应生成氧化性很活泼的烃基自由基（OH-）和**氧离子自由基（O2-、0-），能够把各种**废气。如苯类、氨类、氮氧化合物、硫化物以及其他VOC类**物及无机物，在光催化氧化的作用下还原成二氧化碳、水以及其它无害物质，臭味也同时消失了。由于在光催化反应过程中无任何添加剂，所以不会产生二次污染，运行成本只是利用电能，*经常更换配件，因此运行成本低，节能环保。
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